반도체용 특수가스  (Specialty Gas  (SG))

  반도체 제조 및 연구용으로 사용되는 반도체용 특수가스는 종류가 다양하고 독성이며 초고순도가 요구됩니다. 초고순도 특수가스를 합작선인 AIR LIQUIDE , AIR LIQUIDE JAPAN, ALAC 와의 기술협력으로 철저한 품질관리하에 안전하게 공급하고 있으며 특히 일본의 DENAL 에서 생산되는 고순도 SILANE(99.9999%) 은 전세계의 반도체 업계에 AL GROUP 을 통하여 공급하고 있습니다.

반도체용 특수가스 용도 :  반도체 제조 , 연구

반도체용 특수가스 종류

SiH4 (Mono silane) SiH2Cl2 (Dichlorosilane) Si2H6 (Disilane) AsH3 (Arsine) B2H6 (Diborane) Cl2 (Chlorine) BCI3 (Boron Trichloride) BF3 (Boron Trifluoride)

PH3 (Phosphine) WF6 (Tungsten Hexafluoride) N2O (Nitrous Oxide) NH3 (Ammonia) HCI (Hydrogen Chloride) SiCl4 (Silicon Tetrachloride) SF6 (Sulfur Hexafluoride) NF3 (Nitrogen Trifluoride)